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液态内层抗蚀刻滚涂湿膜CH-2000系列

液?B??涌刮g?L?T?衲?/strong> ?品?格、使用?明??/strong>
?品?介

Chemogenic ink CH-2000C系?用於??拥囊?B感光抗??衲ぁT?00-450nm???鹊淖贤夤庀仑?性工作。此油墨???L?T方式?L?T?而??,能?作最小50um(2mil)的溶解?D形(及?距),?用於完?浒惭b的水溶性?影—?刻—褪洗(DES)?。抗??衲び兄?錾??C械特性,能?用於自?踊?僮鞴に?和???的化?W特性, Chemogenic ink CH-2000C是??用?砣〈?帜さ牡统杀咎娲?罚?疫m用於相同的DES??浜??驶?W?水工?。
材料特性(??手担?/strong>

?色,曝光前 ?\紫色或?面色
?色,曝光後 深紫色,永久性?色
密度(液?B) [g/cm3] 1.03@25℃
密度(烘乾後) [g/cm3] 1.26@25℃
粘度(Hoeppler) [mPas] 600-800@25℃
粘度(DIN Cup No.3) [s] 160±50@25℃
曝光能量 [mj/cm2] 100…150
柔?性/?合力(Cross-Hstch) Gto…1(烘乾後膜厚11um)
表面??B ?合硬接?(hsrd contact)曝光
pH值 3(1:1用水稀?)

 

工???

前?理
建?使用化?W清洗粗化?表面。?C械清洗(如磨刷)也能替代化?W清洗。??影逶谇逑磁c?T覆之?的放置?r?根??h境一般??§?H,以保?良好的?合力和均?蛞恢碌?T覆?果。板子前?理後、?L?T前板面??手行浴?建?水破>15秒,微?速率30--60U")
?T覆
用流量杯或?L?T?的粘度?和控制?置能控制抗??衲さ恼扯取R??8TPI?L??得11um厚度?T?樱?扯瓤刂疲?IN Cup No.3),操作????不同?T布?目?翟?0-160S之?。
烘乾
自??L?T?的??试O定能保?各?板厚的烘乾效果,?些?定??谘b?C?r?好。操作中板子的厚度不同需不同?囟然蜉?送速度。(垂直?T?丫??⒖?0--110℃,水??T?丫??⒖?15--155℃)
烘乾後的放置?r?
板子烘乾後不需放置?r?,可以直接曝光。而且?T覆?K烘乾後的板子可以在???Q房???l件下
?光?^放置24小?r之久。
迭放
烘乾後的Chemogenic ink CH-2000C表面乾燥不粘,能?行硬接?(hsrd contsct)曝光。而且Chemogenic ink 有?O佳的乾燥性CH-2000C在正常烘烤?l件下?宜迭板,配合自?踊??操作能?得更高的合格率。?然,板子之?可以插入防擦花?片或?S眉?片?行分隔迭放。
曝光
正常曝光?l件下曝光、?影後可以得到50um的解析度。?使用平行光源的曝光?C?r可以得到甚至小於50um的解析度。Chemogenic ink CH-2000 C曝光能量??00-150mj/cm2,(此????室及已?y??滟Y料,因?槊刻ㄔO?涞谋堵?艄芾匣?斐傻??度存在差? )所以一般皆?裼?1?曝光尺?整到6-8??橐恕Ng刻後的解析度取?Q於?厚和??淠芰
曝光後放置?r?
不需放置?r?,而且?T覆?K烘乾後的板子可以在???Q房??庶S光?^?l件下放置24小?r之久

?影
建?使用1.0%碳酸?(或者碳酸?)溶液加入大?100ppm消泡?┳?轱@影液。
?囟 28-32℃
??嘴?毫 1.5-2bar
?影?r? 40—60s
?刻
Chemogenic ink CH-2000C能抵受酸性?刻液CuC12/HCl或FeC13。??Σ煌?陌遄映叽纭€~厚和?路?D形,需要相??{整?囟取??嘴角度、??射?毫?臀g刻?r?。
退膜
在??释四ぞ?50-60℃的5%?溲趸?c溶液???和四ぃ?诓坏?0S的?r??瓤刮g?衲ぞ??耆??落。市售的退膜??群?uty1-Diglyco1和/或Amines(胺)的成分,可以加速退洗。?囟 50-60℃
?囟 50-60℃
??嘴?毫 1.5-2.5bar
退膜?r? 40—60s
保持期和?Υ?l件

Chemogenic ink CH-2000C液?B抗??衲つ茉诒3制?缺3址?定的合格率。?楸WC?品的品?,建??期的?Υ??刂圃谝欢?r?和?囟?l件?取?hemogenic ink CH-2000C自?造之日起,在6℃-18℃存于原容器?龋?梢杂???月的保持期。
一?倒入?L?T?,抗??衲ろ?在3日?扔猛辏?r?越久需?量?加稀???
物流及搬?注意事?
??r????r需要使用冷藏?,非冷藏????r粘度??S?囟壬?叨?档停???}?祛I取抗??衲?r最好?裼孟鹊较扔没蛴们跋壤洳氐脑?t。
在?整粘度及?⒖刮g?衲ぜ尤朐O??r,必?穿著合?的手套和防?眼?,有充分的通?。不可在???瘸浴⒑群臀??。可?㈤?物料安全?料表(MSDS)?取更??的?料。
???衲な褂贸R????及解?Q方法


???及?常?象

可能原因分析

改善措施

※?路/缺口

前?理板面氧化

?整前?理微??????咬?速率在工????????o氧化和??n

前?理烘乾段有垃圾

保持烘乾段空?膺^?V?乾?Q,每班用?o?m?酒精擦先一次

?T布?送?子太?/有垃圾

每班生?前用?o?m?酒精擦洗一次

?T布烤箱太?

每7--10天??T布?C烤箱?氐浊??保?一次

曝光能量太低

?整?油墨供??烫峁┑哪芾硪恢

曝光底片上有垃圾

曝光前用菲林水清??低片

?影??挡缓侠

?整?影????舛??囟??毫??影?r?)?油墨供??烫峁??狄恢

DES???佑忻??披?

每7--10天?︼@影?C及?刻?C?送?L??z查一次,有披?用1000#打磨去除

※曝光不良

曝光能量太高

?整?油墨供??烫峁┑哪芰恳恢

曝光?C吸真空度低

排除故障,?整??凳蛊毓?C真空度??

底片?折

整平或更?Q底片

Mylar?C擦?獠坏轿

培?曝光?T,?保擦?獾牧Χ燃肮??

底片?扔杏参

清??底片

※膜厚不均(漏?T)

?T布??形

更?Q?T布?

?T布??啥?T板?距?常

重新?整?啥?T布??距

?T布?TPI不合理

根??a品?????窈线mTPI的?T布?

油墨粘度太低或太高

?整?供??烫峁┱扯??室恢

刮刀?毫Ξ?常

根??a品?型??癫煌?墓蔚?毫

※?距不足

底片??????不合理

根??a品???或?厚??????,特殊情?r下可?裼梅侄窝a??

曝光能量太高

?整?油墨供??烫峁??狄恢

?影??挡缓侠

?整?影????舛??囟??毫??影?r?)?油墨供??烫峁??狄恢

?刻??挡缓侠

根??~厚不同/????距不同/???不同??癫煌?奈g刻速度

※??

基板上有???

?料後洗板,?乐氐挠眉?砂打磨或除??理

?T布前後粘?m?掉?

更?Q粘?m?

?T布前?送?子有油墨

清???送?

曝光能量太高

?整?油墨供??烫峁┑??狄恢

?影??挡缓侠

?整?影????舛??囟??毫??影?r?)?油墨供??烫峁??狄恢??保?影液?勖?八??r?

※擦花

?T布後的板搬??幼魈?

?作搬??幼饕??

?T布收板?r卡板

?修???避免大小板混放

曝光前後取放板?幼魈?

?取?放,平行取放

曝光玻璃擦花

更?Q曝光?C玻璃

※?幼

曝光能量太低

?整?油墨供??烫峁┑哪芰恳恢

?影??挡缓侠

?整?影????舛??囟??毫??影?r?)?油墨供??烫峁??狄恢

?刻?度

根??~厚不同/????距不同/???不同??癫煌?奈g刻速度

 

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